矽智財(IP)廠力旺(3529)今(23)日宣布，
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，其OTP NeoFuse矽智財領先業界，
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，於世界級晶圓代工廠的40奈米嵌入式高壓製程(Embedded High Voltage，
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，EHV)完成可靠度驗證，
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，客戶同時也在該代工廠完成設計定案(Tape Out)，
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，即將進入量產。力旺表示，
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，為了滿足液晶顯示器驅動晶片(LCD Driver IC)與有機發光二極體顯示器驅動晶片(OLED Driver IC)需要作參數調校與功能設定的需求，
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，邏輯製程非揮發性記憶體(Logic-Based Non-Volatile Memory，
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，Logic NVM)解決方案已經是EHV製程上的標準配備，預期將使NeoFuse矽智財被更加廣泛地嵌入使用於新一代顯示器相關領域應用。力旺於40奈米EHV製程布建之NeoFuse矽智財採用雙電壓的供電模式，並維持在其他製程上一貫的優異性能，可以達到低電壓操作。在40奈米EHV製程上，NeoFuse矽智財的電壓範圍最低可到達1.8伏特，該項在低電壓可以讀取資料的優異特性，使驅動晶片得以於系統啟動前即完成資料讀取與調校。力旺為Logic NVM矽智財之領導廠商，與客戶及晶圓代工廠夥伴緊密合作，充份掌握製程開發與製程世代的演進，以期在製程開發初期即完成Logic NVM矽智財之驗證，成功在40奈米EHV製程上再次實現。力旺率先於40奈米EHV製程推出Logic NVM解決方案，其NeoFuse技術亦同步在其他的世界級晶圓代工廠之40奈米高壓製程(High Voltage，HV)進行布局，本季即完成可靠度驗證。(時報資訊)，